Главная » Новости » 2005 » 04 » 11 11 апреля 2005

Cadence: для перехода на 65-нм нормы необходима смена концепции

Итак, мало у кого сегодня вызывает сомнение тот факт, что переход на 90-нм нормы состоялся. Более того, демонстрации микросхем, выполненных с соблюдением норм 65-нм техпроцесса уже тоже перестали быть диковинкой. Поэтому в Cadence Design Systems уже говорят о том, что индустрия готова к массовому переходу на 90-нм нормы.

При этом 130-нм нормам в Cadence прочат еще долгую жизнь в нише аналоговых и цифро-аналоговых устройств, поскольку малые напряжения питания, характерные для норм 90-нм процесса не подходят многим производителям цифро-аналоговых микросхем. Не поэтому ли, кстати, TI уже давно говорит о необходимости разработки полностью цифровых радиочастотных схем, а ученые из Hypres готовы использовать сверхпроводящие ниобиевые устройства для создания будущих поколений программно-управляемой высокочастотной электроники?

Впрочем, устройствам Hypres еще долго суждено витать в облаках hi-tech, в то время как такие брэнды цифрового мира, как ATI и NVIDIA всерьез планируют в ближайшем будущем перейти на нормы 65-нм процессов. По темпам уменьшения элементов эти компании даже обошли производителей микропроцессоров, DRAM и флэш-памяти, впрочем, последнее и неудивительно, так как с уменьшением размеров ячейки в флэш-памяти начинаются проблемы с временем хранения данных.

Главное, что утверждает Cadence – разработчикам полупроводниковых микросхем не нужно предпринимать каких-либо сверхъестественных усилий для перехода с 90-нм норм на 65 нм: материалы проводников, high-k (высокой диэлектрической проницаемости) диэлектрических пленок и изоляторов остаются практически теми же. Подходы к снижению влияния токов утечки также пока остаются такими же, как и для 90-нм процессов.

Единственной проблемой, решение которой, впрочем, больше должно будет заботить производителей, остается возможность выпуска и конечная стоимость фотомасок. Пока что, например, в исследовательских центрах Texas Instruments и IMEC еще ведутся работы над определением критических моментов, но общее настроение таково, что многие производители, скорее всего, безболезненно смогут использовать 193-нм сканеры для выпуска микросхем по 65-нм нормам.

Однако, главная разница между 90-нм и 65-нм нормами заключается в том, что для эффективной работы потребуется изменение концепции синхронизации. Выльется это, скорее всего, в реализацию статистического подхода к синхронизации 65-нм чипов на высоких тактовых частотах. Таким образом, новая эра полупроводниковой промышленности, наступление которой прогнозировалось три года назад, наступит именно с приходом 65-нм норм в массовое производство.

Источник: Parasound

14:07 11.04.2005
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
апрель
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2005

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.