Как мы уже сообщали, у исследователей есть серьезные опасения по поводу того, сможет ли промышленность преодолеть рубеж в 45 нм. Решению этого вопроса, отчасти, была посвящена конференция Maskless Meeting, на которой IMS Nanofabrication и Leica Microsystems представили электронно-литографический инструмент, позволяющий создавать рисунки с соблюдением норм 45 нм и менее.
Названный PLM-2, инструмент построен на базе текущей электронно-лучевой платформы Leica SB350DW. Утверждается, что разрешающая способность инструмента составляет 4 млн. точек. Испущенные 5-КэВ электронной пушкой с начальным диаметром пучка 1 мм, электроны разгоняются до энергий в 100 КэВ, а диаметр точки составляет не более 180 нм. Как ожидается, прототип PLM-2 будет готов к концу 2006 года, начало выпуска промышленных инструментов ожидается в 2008 году.
Еще одно интересное сообщение на Maskless Meeting сделала компания Novelx, сообщившая о разработке технологии монолитных керамических MEMS (micro electromechanical system) модулей для электронно-лучевой литографии. Каждый модуль содержит по четыре TF-излучателя, на выходе которых можно получать пучки электронов с энергией 1 КэВ.
Далее, Novelx предложила объединять модули с излучателями в массивы 12х12 для использования их в многолучевых электронно-лучевых литографических инструментах. При этом достигается достаточно высокая производительность – от 1 до 5 300-мм пластин в час, а размер элемента, как уже было сказано выше, может составлять до 45 нм.