Главная » Новости » 2005 » 01 » 19 19 января 2005

Электронно-лучевая литография – в фокусе Maskless Meeting

Как мы уже сообщали, у исследователей есть серьезные опасения по поводу того, сможет ли промышленность преодолеть рубеж в 45 нм. Решению этого вопроса, отчасти, была посвящена конференция Maskless Meeting, на которой IMS Nanofabrication и Leica Microsystems представили электронно-литографический инструмент, позволяющий создавать рисунки с соблюдением норм 45 нм и менее.

Названный PLM-2, инструмент построен на базе текущей электронно-лучевой платформы Leica SB350DW. Утверждается, что разрешающая способность инструмента составляет 4 млн. точек. Испущенные 5-КэВ электронной пушкой с начальным диаметром пучка 1 мм, электроны разгоняются до энергий в 100 КэВ, а диаметр точки составляет не более 180 нм. Как ожидается, прототип PLM-2 будет готов к концу 2006 года, начало выпуска промышленных инструментов ожидается в 2008 году.

Еще одно интересное сообщение на Maskless Meeting сделала компания Novelx, сообщившая о разработке технологии монолитных керамических MEMS (micro electromechanical system) модулей для электронно-лучевой литографии. Каждый модуль содержит по четыре TF-излучателя, на выходе которых можно получать пучки электронов с энергией 1 КэВ.

Далее, Novelx предложила объединять модули с излучателями в массивы 12х12 для использования их в многолучевых электронно-лучевых литографических инструментах. При этом достигается достаточно высокая производительность – от 1 до 5 300-мм пластин в час, а размер элемента, как уже было сказано выше, может составлять до 45 нм.

Источник: PC Watch

10:55 19.01.2005
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2005

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.