Главная » Новости » 2004 » 09 » 18 18 сентября 2004

Смелый шаг Micron: минуя обычные 193-нм технологии, сразу к иммерсии!

Пока ведущие игроки полупроводниковой промышленности критически оценивают возможности иммерсионной литографии (как нам известно, первой о включении иммерсионных технологий с свой роадмэп объявила в августе IBM), производитель DRAM компания Micron решилась на довольно смелый шаг: вместо перехода от использования 248-нм литографических инструментов к "сухим" 193-нм сканерам, компания сразу начнет внедрение иммерсионных 193-нм технологий.

Сегодня Micron использует преимущественно 248-нм оборудование производства голландской ASML, некоторая часть оборудования на заводе компании в Сингапуре была приобретена у Canon.

Свои 248-нм инструменты Micron собирается использовать вплоть до 90-нм норм, технически это возможно благодаря технологии фазосдвигающих масок (phase-shifting masks). Иммерсионные 193-нм сканеры Micron начнет применять для выпуска чипов по нормам 70 нм и менее, первые инструменты от ASML поступят в ее распоряжение в следующем году.

Источник: PC Watch

09:36 18.09.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
сентябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.