Главная » Новости » 2004 » 08 » 29 29 августа 2004

Иммерсионная литография: в планах IBM

Явно готовясь к выпуску на рынок волны полупроводниковых микросхем нового поколения, IBM без лишней помпы добавила иммерсионную литографию в свои производственные планы.

Еще в прошлом году компания планировала продлить срок службы 193-нм сканеров до 65-нм норм, соответственно, 157-нм сканерам отводилась бы роль инструмента для работы с 45-нм нормами. Для 32-нм норм IBM исследовала возможность внедрения электронно-лучевой литографии, EUV (жесткий ультрафиолет) и других технологий. Однако, так как 157-нм литография (в немалой степени, с подачи Intel), была большинством компаний если уж не заброшена, то, в любом случае, оставлена без особого внимания, IBM решила последовать обшей тенденции и использовать иммерсионную литографию с своей работе.

В результате, Albany NanoTech, ASML, IBM и TEL начнут совместную работу над оптимизацией обработки 300-мм полупроводниковых пластин в прототипах иммерсионных инструментов ASML. К аналогичной работе в Европе также подключатся AMD и Infineon.

Источник: PC Watch

  • Теги:
19:52 29.08.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.