Главная » Новости » 2004 » 08 » 22 22 августа 2004

193-нм литография в массовом производстве – с 2007 года

Поскольку на пути иммерсионной литографии заметных преград не наблюдается, International Sematech полагает, что ее внедрение в массовое производство начинется с 2007 года – таким образом, признается безоговорочное торжество 193-нм иммерсионных технологий на 157-нм литографией.

По мнению присутствовавших на международном симпозиуме по иммерсионной и 157-нм литографии, за прошедшее с начала активного исследования и разработки иммерсионных технологий время произошло множество позитивных изменений – разработаны фоторезисты, оптика и фотомаски. В 2007 году иммерсионная литография должна будет начать применяться для выпуска полупроводниковых микросхем с соблюдением норм 65 нм.

Тем временем ASML, Nikon и Canon обещают начать продавать коммерческое 193-нм иммерсионное оборудование первого поколения лишь в 2005 году. Затем, в 2006 году, на рынок начнет поступать оборудование второго поколения, надо полагать, с улучшенными показателями числовой апертуры.

Источник: PC Watch

02:15 22.08.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.