Поскольку на пути иммерсионной литографии заметных преград не наблюдается, International Sematech полагает, что ее внедрение в массовое производство начинется с 2007 года – таким образом, признается безоговорочное торжество 193-нм иммерсионных технологий на 157-нм литографией.
По мнению присутствовавших на международном симпозиуме по иммерсионной и 157-нм литографии, за прошедшее с начала активного исследования и разработки иммерсионных технологий время произошло множество позитивных изменений – разработаны фоторезисты, оптика и фотомаски. В 2007 году иммерсионная литография должна будет начать применяться для выпуска полупроводниковых микросхем с соблюдением норм 65 нм.
Тем временем ASML, Nikon и Canon обещают начать продавать коммерческое 193-нм иммерсионное оборудование первого поколения лишь в 2005 году. Затем, в 2006 году, на рынок начнет поступать оборудование второго поколения, надо полагать, с улучшенными показателями числовой апертуры.