Главная » Новости » 2004 » 08 » 02 2 августа 2004

Intel: первые пробы EUV-литографии

Intel сообщила сегодня о том, что установила на своем производстве ультрафиолетовый (EUV) литографический инструмент разработки Exitech. В инструменте используется источник света длиной волны 13,5 нм (жесткий ультрафиолет), что дает возможность создавать изолированные линии шириной 30 нм. В данный момент EUV-литографический инструмент используется для тестирования фоторезистов и фотомасок.

Как мы уже неоднократно сообщали ранее, Intel планирует использовать EUV-литографию для изготовления полупроводниковых микросхем по нормам 32 нм к 2009 году. Прогресс в разработке технологии на текущем этапе тестирования компания относит к path-finding (поиск пути), после чего должен будет наступить этап внедрения в массовое производство.

Главная проблема EUV-литографии заключается в том, что в этом диапазоне длин волн (около 13,5 нм) большинство используемых в обычной оптике материалов излучение поглощают хорошо, в связи с чем подложки приходится помещать в вакуум. Кроме того, вместо рефрактивной оптики для фокусирования 13,5-нм света используется рефлективная. Собирающие зеркала изготовлены с напылением 40 слоев кремния и молибдена. Размер обрабатываемой области составляет около 600 кв. мкм.

Источник: Parasound

15:15 02.08.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.