На прошедшей неделе Intel окончательно отказалась от господствующей доктрины выпуска новых полупроводниковых технологий «любой ценой». Так, по данным источника, считает Джей Хаху (Jai Hakhu), вице-президент Intel Technology Manufacturing Group, сообщив на конференции 3i iSight Semiconductor в Пало-Альто о таких трудностях в развитии полупроводниковых технологий, как CMP-процессы (CMP — chemical mechanical polishing), нарезку пластин на чипы, литографии. Все эти трудности требуют аккуратного внедрения новых технологий, добиваясь максимальной экономической эффективности, а это стоит на пути у продления жизни закона Мура. Таким образом, неявно признается, что продолжая «тянуть» закон Мура в его современном виде (удвоение плотности каждые 18 месяцев) изо всех сил, полупроводниковое производство рискует перестать быть выгодным, а значит, скорее всего, уже в ближайшие два-три года закон Мура будет пересмотрен (хотя ранее ему пророчили справедливость еще не на один десяток лет).
В связи с тем, что новые полупроводниковые технологии с уменьшением норм процессов становятся все более сложными, индустрия, по мнению Intel, идет к новой парадигме, во главе которой стоит не уменьшение норм техпроцесса любой ценой, а экономическая эффективность.
Наряду с закупкой 65-нм литографического оборудования, Intel продолжает инвестировать в EUV-литографию, которой прочат появление к началу выпуска чипов по 32-нм нормам, однако одновременно с этим компания проводит анализ экономической целесообразности иммерсионных технологий, а также прикладывает ряд усилий на обеспечение доступности инструментов для тестирования дизайнов.