В конце ноября прошлого года мы сообщали нашим читателям о выпуске пробных экземпляров микросхем статической оперативной памяти (SRAM), выполненных с применением 65-нм норм в лабораториях Intel. На дворе почти апрель, то есть, со знаменательного события прошло практически четыре месяца и, как выяснили наши коллеги из Silicon Strategies, времени зря компания не теряла: не афишируя громко свою деятельность, Intel начала закупки и приступила к монтажу оборудования для начала массового производства полупроводниковых чипов по 65-нм нормам. Стоимость создаваемой компанией производственной линии составляет в районе $500-$700 млн., в числе поставщиков значатся почти все ведущие вендоры оборудования: ASMI, ASML, Genus, Nikon, Novellus.
Каждой из перечисленных компания досталось по своему куску сладкого пирога престижного технологического процесса: ASML и Nikon поставляют литографические сканеры и степперы, Novellus, выигравшая контракт у Applied Materials, поставит Intel оборудование PVD (physical-vapor deposition) для нанесения медных проводников (кстати, сумма одного этого контракта оценивается в $125 млн.); ASMI обеспечит оборудование для нанесения low-k (с низкой диэлектрической проницаемостью) диэлектрических пленок и создания внутренних напряжений в кремнии (технологии strained-silicon). Что также любопытно, Intel планирует внедрить технологию ALD (atomic layer deposition), разработанную ASMI и Genus, рассматривает возможность использования LTP (laser thermal processing), созданную Ultratech. Работы по автоматизации производственных процессов, скорее всего, проведут Asyst Technologies и Daifuku.
Читатели, следившие за развитием ситуации, наверняка помнят, что на протяжении всего прошлого года среди вендоров литографического оборудования шла ожесточенная борьба за будущие контракты Intel, являющейся крупнейшим покупателем оборудования в мире. И хотя, как мы сегодня видим, большинство ролей уже распределено, есть еще часть кусочков пирога, не доставшихся пока никому. Кроме того, есть мнение, что стоимость 65-нм производственной линии вряд ли ограничится всего семью сотнями миллионов долларов.
Позволим себе напомнить, что запуск 65-нм технологий в массовое производство ожидается (по крайней мере, до сих пор ожидался) лишь к 2005 году. Главный конкурент Intel, AMD, начала в прошлом году строительство в Дрездене 65-нм – 45-нм 300-мм завода Fab 36, стоимость постройки которого составит около $2,4 млрд., а в строй он вступит в 2006. Кроме 300-мм завода Intel D1D в Орегоне, на котором планируется постройка первой 65-нм линии, компания рассматривает планы переоборудования 200-мм завода Fab 12 в Аризоне. После переоснащения, стоимость Fab 12 составит порядка $2 млрд., и можно предположить, что борьба за контракты Intel только начинается – наверняка остальные заводы компании тоже будут когда-нибудь переоснащены.
Несмотря на то, что в этой своеобразной гонке ASML и Nikon пока идут на равных, у последней может быть небольшое преимущество: Intel уже заявила по намерении приобрести i-line, 248- нм и 193-нм сканеры у японской компании. Для критически важных узлов 65-нм чипов Intel будет использовать 193-нм сканеры с высокой числовой апертурой, но пока — без иммерсии. А в дальнейшем (к 32-нм нормам), как известно, Intel надеется на «доведение до ума» технологий EUV.