Главная » Новости » 2004 » 01 » 26 26 января 2004

Иммерсионная литография позволит создавать чипы по 35-нм нормам

Исследователям из Рочестерского Технологического Института (Rochester Institute of Technology, RIT) удалось расширить рамки применения использующихся в настоящее время (и, возможно, набивших некоторым промышленникам оскомину) 193-нм литографических сканеров и степперов до 38-нм норм. Это наводит на мысль, что иммерсионная литография (разумеется, получить 38-нм рисунки с помощью 193-нм инструментов было бы невозможно без применения иммерсии — погружения в воду) может оказаться куда более удачной технологией, чем прогнозируется ныне и для норм менее 45 нм, возможно, не придется переходить на 157-нм сканеры или EUV (extreme ultraviolet) устройства.

RIT разработала свой собственный прототип иммерсионного микростеппера с числовой апертурой (numerical aperture) 1,25. По словам Брюса Смита, зам. декана Инженерного Колледжа Рочестерского Института и профессора микроэлектроники (Intel Professor of Microelectronic Engineering), в лабораторных условиях степпер создавал линии толщиной 38 нм.

По мнению Смита, руководящему разработками иммерсионной литографии в RIT, технология становится кандидатом на применение вплоть до 35-нм норм, чье внедрение ожидается в 2011-2013 годах. В течение прошлого года научно-исследовательская деятельность группы Смита финансировалась ASML, International Sematech, SRC (Semiconductor Research Corp.) и DARPA (Defense Advanced Research Projects Agency). В RIT также работают над улучшением характеристик фотомасок и фоторезистивных материалов (фоторезистов).

Прототип степпера RIT немного отличается от традиционного для иммерсионной литографии подхода: вместо погружения всей полупроводниковой пластины в нем используется небольшой дисперсионный патрубок, позволяющий задействовать малое количество воды, создавая что-то вроде локального «душа» (за такой подход всегда ратовала ASML). Вторая проблема, которой уделено большое внимание – образование микропузырьков. Чтобы исключить вероятность возникновения микроскопических пузырьков растворенного в воде газа при работе, используемую в инструменте воду подвергали двойному кипячению (надо полагать, помимо того, что вода там дистиллированная).

Следующий шаг, который могут предпринять исследователи – изменение показателя преломления воды, для чего будут опробованы различные добавки. Что касается последнего прототипа, то первые устройства на его основе могут появиться уже в 2006 году.

Источник: Parasound

08:58 26.01.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.