Тайваньская компания-производитель полупроводниковых чипов UMC сообщила о том, что одной из первых начала использование технологий фазосдвигающих масок без применения хрома. Свои новые фотомаски компания успешно опробовала на технологических процессах с нормами 90-нм и, если 90-нм технологии окажутся удачными, собирается внедрить их для выпуска микросхем по 65-нм нормам с применением 193-нм литографических инструментов.
Подход компании немного отличается от того, что продемонстрировала Intel, представив первые 4-Мбит чипы SRAM, выполненные по 65-нм нормам. По словам разработчиков UMC, не содержащие хрома фазосдвигающие маски позволяют достичь лучшего контраста и равномерности линий изображения.
Дело в том, что хром в фазосдвигающих масках был заменен на дополнительные фазосдвигающие элементы размером, лежащим вне динамического диапазона. Эти фазосдвигающие элементы создают интерференцию, результатом которой является компенсация «размывания» краев изображения и улучшение контраста.