Главная » Новости » 2003 » 12 » 08 8 декабря 2003

Не содержащие хрома фотомаски: альтернативная технология UMC

Тайваньская компания-производитель полупроводниковых чипов UMC сообщила о том, что одной из первых начала использование технологий фазосдвигающих масок без применения хрома. Свои новые фотомаски компания успешно опробовала на технологических процессах с нормами 90-нм и, если 90-нм технологии окажутся удачными, собирается внедрить их для выпуска микросхем по 65-нм нормам с применением 193-нм литографических инструментов.

Подход компании немного отличается от того, что продемонстрировала Intel, представив первые 4-Мбит чипы SRAM, выполненные по 65-нм нормам. По словам разработчиков UMC, не содержащие хрома фазосдвигающие маски позволяют достичь лучшего контраста и равномерности линий изображения.

Дело в том, что хром в фазосдвигающих масках был заменен на дополнительные фазосдвигающие элементы размером, лежащим вне динамического диапазона. Эти фазосдвигающие элементы создают интерференцию, результатом которой является компенсация «размывания» краев изображения и улучшение контраста.

Источник: BBK

  • Теги:
10:00 08.12.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
декабрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.