Будущий 2004 года должен стать годом интенсивного внедрения 90-нм технологических норм. Однако уже сейчас ASML сообщает о завершении разработки литографического инструмента Twinscan XT:1250, способного работать по 65-нм нормам. Поставки Twinscan XT:1250 начнутся с марта-апреля 2004.
Twinscan XT:1250 используется источник света длиной волны 193 нм и в целом аналогичен предыдущей версии Twinscan AT:1200, однако с усовершенствованной оптикой и улучшенным программным обеспечением, учитывающем большее количество факторов. Twinscan AT:1200 способен создавать элементы геометрических размеров от 80-нм на 300-мм полупроводниковых пластинах, XT:1250 – размером от 70-нм на пластинах 200 и 300 мм. Последнее обстоятельство – возможность работать с 200-мм пластинами, добавляет рыночной привлекательности инструменту.
Также уменьшено энергопотребление и размеры — XT:1250 занимает на 25% меньше места и потребляет меньше электроэнергии и воды. Скорость обработки пластин составляет примерно 114 в час. Правда, стоимость устройства составит порядка 20 миллионов долларов.