Главная » Новости » 2003 » 10 » 22 22 октября 2003

ASML готова начать поставки 65-нм инструментов в будущем году

Будущий 2004 года должен стать годом интенсивного внедрения 90-нм технологических норм. Однако уже сейчас ASML сообщает о завершении разработки литографического инструмента Twinscan XT:1250, способного работать по 65-нм нормам. Поставки Twinscan XT:1250 начнутся с марта-апреля 2004.

Twinscan XT:1250 используется источник света длиной волны 193 нм и в целом аналогичен предыдущей версии Twinscan AT:1200, однако с усовершенствованной оптикой и улучшенным программным обеспечением, учитывающем большее количество факторов. Twinscan AT:1200 способен создавать элементы геометрических размеров от 80-нм на 300-мм полупроводниковых пластинах, XT:1250 – размером от 70-нм на пластинах 200 и 300 мм. Последнее обстоятельство – возможность работать с 200-мм пластинами, добавляет рыночной привлекательности инструменту.

Также уменьшено энергопотребление и размеры — XT:1250 занимает на 25% меньше места и потребляет меньше электроэнергии и воды. Скорость обработки пластин составляет примерно 114 в час. Правда, стоимость устройства составит порядка 20 миллионов долларов.

Источник: PC Watch

11:01 22.10.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
октябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.