Главная » Новости » 2003 » 10 » 06 6 октября 2003

STMicroelectronics выступила в поддержку 157-нм литографии

Похоже, рановато пока списывать на пенсию 157-нм литографию, тем более что шансов проявиться себя ей пока даже и не досталось: STMicroelectronics подтвердила свою решимость использовать 157-нм литографические инструменты на своих заводах. Одновременно с этим компания собирается начать экспериментировать с электронно-лучевыми технологиями для производства небольших партий чипов по 65-нм нормам и менее.

В настоящее время компания использует 193-нм литографические инструменты в своих 0,12-мкм технологических процессах. Основным поставщиком оборудования для STMicroelectronics является голландский концерн ASML. Впрочем, STMicroelectronics также рассматривает возможность продления жизненного цикла 193-нм инструментов, которая выглядит привлекательной для многих производителей.

Но несмотря ни на что, STMicroelectronics настроена внедрять 157-нм литографию, посчитав целесообразным не ставить слишком много на иммерсионные и ультрафиолетовые (EUV) технологии. Итак, в лагере подвижников 157-нм остались: IBM, Infineon, Philips, TI и STMicroelectronics.

Напомним, что основной удар по 157-нм планам нанесла Intel в мае этого года, объявив, что исключает 157-нм инструменты из своих планов. Ранее, компания поддерживала разработку 157-нм литографии и выделила немало средств на ее развитие к моменту начала производства по 45-нм нормам в 2007 году. Теперь в планах Intel значится использование 193-нм инструментов в 90-нм, 65-нм и 45-нм процессах с использованием иммерсионных технологий, а для 32-нм норм компания собирается задействовать EUV.

Источник: PC Watch

11:23 06.10.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
октябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.