Главная » Новости » 2003 » 09 » 26 26 сентября 2003

CPL: новое слово в литографии

Немало было поломано и загнуто перьев на полях брани вокруг разных технологий литографии, использующих все меньшие длины волн. И вот, выйдя почти что из тени (а точнее, из оборонной промышленности), на сцене появилась еще одна: CPL или Collimated Plasma Lithography (коллимированная плазменная литография) разработки JMAR Technologies.

О новой технологии пока сообщается немного, но из представленных на сайте компании данных получается, что CPL должна будет прийти на смену EUV и при этом не потребует существенных затрат: при использовании твердотельных лазеров удается создать достаточно мощный источник излучения длиной волны 0,5 нм. Помимо литографии, источники излучения на основе технологии CPL планируется применять в детекторах наркотических и токсических веществ нового поколения.

02:48 26.09.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



сентябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.