Главная » Новости » 2001 » 07 » 26 26 июля 2001

Intel: 193 нм оборудование от SVG - не для 0,13 мкм техпроцесса

Итак, новые задержки: ASM Lithography, подразделение Silicon Valley Group, объявила в очередной раз об отодвинутой дате начала поставок своего 193 нм аргон-фторидного (ArF) литографического оборудования - теперь сроки отодвинуты уже на октябрь. Однако, на этот раз, Intel с честью парировала все домыслы о том, что такая задержка каким-либо образом отразится на графике поставок новых процессоров, выполненных с соблюдением 0,13 мкм технологического процесса.

Первые 0,13 мкм чипы Intel будут официально анонсированы уже 30 июля, но дело даже не в этом. Представители Intel заявили, что использование 193 нм литографического оборудования от SVG для 0,13 мкм технологического процесса не планируется, оно предназначено для использования в следующем поколении техпроцесса - уже для 100 нм (0,10 мкм) технологии!

Ввод нового 100 нм техпроцесса Intel, названного P1262, ожидается в 2003 году.

Источник: Silicon Strategies

09:45 26.07.2001
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2001

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.