Производитель линз для литографического оборудования компания Canon сообщила о твердом решении продолжать работы только со фторидом кальция (CaF2) на предмет его использования в 157 нм лазерах, несмотря на его высокую стоимость. Помимо того, что такие линзы остро необходимы для нынешних 193 нм лазеров, которые будут использоваться при выпуске чипов с 0,10 мкм нормами техпроцесса, Canon намерена выпускать фторид-кальциевые линзы для 157 нм лазеров, нацеленных на применение в технологическом процессе с нормами 0,07 мкм. Этот процесс, как ожидается, будет достаточно распространен уже в 2005 году.
Многие компании в настоящее время заняты поиском альтернативных материалов для линз, поскольку использование фторида кальция вызывает две серьезных проблемы: это, во-первых, существенный рост стоимости комплекта оборудования в целом за счет дороговизны CaF2 линз, во-вторых, из-за не совсем устраивающего разработчиков внутреннего свойства материала – двойного преломления лучей. Это создает дополнительные проблемы из-за расщепления неполяризованного света при прохождении через линзы, тем самым снижая четкость изображения.
Тем не менее, Canon твердо остановила свой выбор на CaF2, и в настоящее время занята снижением стоимости оборудования за счет уменьшения количества линз в системе, что стало возможным благодаря применению соосных катадиоптрических систем, значительно снижающих потребность в CaF2 линзах. А вот как представитель Canon высказался по поводу альтернативных материалов: "Фторид бария не сможет обеспечить качественного пропускания лучей в диапазоне 157 нм. Плюс к этому, главным его недостатком является в сто раз большая, нежели у фторида кальция, гигроскопичность. Для борьбы с этим понадобилась бы разработка специальных материалов для создания поверхностных пленок. Что касается фторида магния и фторида лития, то их высокий показатель двойного преломления лучей вообще ставит под вопрос применение этих материалов в проекционной оптике". Источник: Electronic Times