Главная » Новости » 2001 » 11 » 08 8 ноября 2001

Новые 0,10 мкм технологии из Японии

Японцы, которые, как всегда, пытаются быть "впереди паровоза", на днях отрапортовали о новых достижениях в области разработки <0,10 мкм техпроцессов. Tokyo Electron и Toshiba сообщили о том, что вместе они смогли достичь еще меньших коэффициентов в диэлектриках для использования в чипах, сделанных по 0,10 мкм технологии и меньше. А Fujitsu заявила, что она улучшила процесс отжига, основанный на применении дейтерия, который должен решить проблему устойчивости к "горячим носителям заряда" в будущих чипах.

Если вернутся к первым двум компаниям, то их новый метод нанесения диэлектриков с низким числом k на поверхность медных соединений позволяет осуществлять этот процесс с помощью 19-электронного пучка, который может снизить время затвердевания меди до 2 минут при температуре в 35C. А это гораздо быстрее, чем 30 мин в специальной печи при температуре в 400C, когда нельзя избавится от частичной диффузии меди в диэлектрик. Короче говоря, все эти манипуляции позволяют достичь стабильного показателя k в 2,91, что как раз подходит для 0,10 мкм процесса.

Что же касается перспектив этого дела, то, естественно, пока что все таинство происходит лишь в лаборатории. Но сомнений в том, что поставить на широкую ногу подобное производство при современных технологиях труда не составит, нет ни у кого. Toshiba, кстати, уже планирует начать поставки пробного оборудования на свои фабрики уже весной 2002 года.

Что же касается разработок Fujitsu, то они, в принципе, не новы - американцы до отжига дейтерием додумались раньше. Однако японцы с их упорством все же первыми достигли практических результатов. В лаборатории Fujitsu 0,13 мкм процесс уже сейчас использует такой отжиг, хотя, без него, грубо говоря, пока можно и обойтись, как поступили другие компании. Однако тесты показали, что с помощью такого технологического процесса можно увеличить жизнь микросхемы почти в два раза по сравнению с обычной обработкой горячим водородом. На самом деле, дейтериевая технология уже сейчас применима к чипам, сделанным по 0,09 мкм технологическим нормам.

Однако, как и все новое, дейтериевый отжиг пока что дорог и со сроками его введения в массовое производство тоже не все ясно... Ясно одно - за этой технологией будущее.

01:54 08.11.2001
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ноябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2001

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.