Главная » Новости » 2002 » 01 » 17 17 января 2002

Tower закончила монтаж 0,18 мкм линии

Производитель полупроводников Tower Semiconductor объявила о том, что ею закончен монтаж пилотной линии по производству чипов с применением норм 0,18 мкм техпроцесса. Линия, смонтированная на уже работающей Fab 1 компании, основана на 0,18 мкм CMOS процессе от японской Toshiba.

Новая линия будет выпускать прототипы заказных чипов, а массовый выпуск продукции начнется после ее переноса на Fab 2, которая в настоящее время находится в стадии строительства. После введения в строй, Fab 2 будет производить до 33 тысяч 200 мм пластин с применением 0,18 мкм техпроцесса в месяц.

Суммарная стоимость новой 0,18 мкм линии составляет порядка $130 млн.


Источник: Silicon Strategies

16:04 17.01.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.