Главная » Новости » 2002 » 03 » 02 2 марта 2002

Nikon и JSR: программа по разработке резистов для 193 нм литографии

Nikon объявила о создании технологического альянса по разработке фоторезистов для 193 нм литографии с токийской компанией JSR Microelectronics .

Согласно условиям, к середине 2002 года JSR Microelectronics получит две новейших литографических установки Nikon для своих R&D центров: североамериканское подразделение JSR получает в свое владение 193 нм аргон-фторидный (ArF) сканер Nikon S305C, второй сканер, S306C, будет установлен в 193 нм научно-исследовательском центре компании в Йокаичи, Япония.

Помимо разработки новых фоторезистов, JSR намерена использовать полученные системы для оптимизации процесса выпуска чипов в целом. Как было заявлено представителем Nikon, компании займутся доработкой процесса и доведением его "до рабочего состояния".

Источник: PC Watch

03:14 02.03.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.