LPP-EUV: Новый источник света для фотолитографии

1174

Cutting Edge Optronics, подразделение TRW, и Sandia National Laboratories объявили об успешном окончании демонстраций применения мощных LPP-EUV (Laser Produced Plasma-Extreme Ultraviolet) источников света в литографии. В ходе демонстрации лазер, разработанный TRW, испытывался на тестовом стенде Engineering Test Stand (ETS) разработки Sandia, Lawrence Berkeley и Lawrence Livermore National Laboratories.

В настоящее время перспективы использования жесткого ультрафиолетового лазерного излучения (Extreme Ultraviolet, EUV, длина волны – 13,4 нм) в фотолитографии еще только начинают изучаться, хотя разговоры идут уже довольно давно, поэтому результаты Cutting Edge Optronics дают надежду на скорое появление новых методов в этой индустрии.

Для излучения света длиной волны 13,4 нм 500-Вт лазер производства TRW фокусировался на истекающую струю ксенона. При этом утверждается, что мощность излучения газовой плазмы, полученной таким способом, в 30 раз больше, чем у предыдущих ультрафиолетовых источников, использованных на ETS. Большая мощность позволяет уменьшить время выдержки со 120 с до 4 с. Кроме этого, результатом демонстрации стало и то, что можно осуществлять выдержку в среде, подходящей для литографической оптики. Во втором квартале 2002 г. исследователи планируют осуществить похожую демонстрацию, только с 1500-Вт лазером.

Так что будем ждать дальнейших известий. Впрочем, если учесть, что спонсором разработки ETS выступила компания Extreme Ultraviolet Limited Liability Company (EUV, LLC), консорциум, состоящий из таких гигантов индустрии, как Intel, AMD, Motorola, Micron Technologies, Infineon и IBM, то ждать, наверное, придется не так уж и долго.

Источник: Semiconductor Fabtech

15 марта 2002

19:48

Ctrl
ПредыдущаяСледующая

Все новости за сегодня

Опубликовано изображение, на котором сравниваются Xiaomi Mi Mix, Xiaomi Mi Mi 2 и Samsung Galaxy S8:

Беспроводная гарнитура Meizu EP52 оценена в $45: Гарнитура защищена от попадания влаги в соответствии с требованиями класса IPX5

Надписи на клавишах клавиатуры Cherry MX Board 5.0 выполнены эксклюзивным шрифтом: Цена новинки — 159 евро3

Предыдущие владельцы Galaxy Note7 могут сэкономить при покупке Note8 до $425: Акция ограничена онлайновым магазином Samsung в США9

Описание умного браслета Samsung Gear Fit2 Pro замечено на сайте производителя: О цене официальной информации пока нет

Представлен смартфон Samsung Galaxy Note8: Прием предварительных заказов начнется 24 августа65

Microsoft Project Brainwave — искусственный интеллект в реальном времени: Высокое быстродействие обеспечено использованием FPGA 7

Массивная утечка сведений о камере Nikon D850 произошла накануне анонса: В камере используется датчик изображения типа CMOS разрешением 45,7 Мп18

Ассортимент Iogear пополнила стыковочная станция GUD3C03 с портом USB-C: Кроме того, представлено устройство для работы с картами памяти GRF3C15, тоже оснащенное портом USB-C

1318

iXBT TV

  • Обзор изогнутого монитора Samsung C24FG70FQI с поддержкой AMD FreeSync и частоты 144 Гц

  • Электро-Maybach, топовая Nokia и действительно оригинальный смартфон

  • Обзор видеоускорителя AMD Radeon RX Vega 64

  • Обзор легкой, компактной и дешевой мясорубки Kitfort KT-2101 Carnivora

  • Обзор беззеркальной фотокамеры Fujifilm X-T20

  • Обзор кинотеатрального DLP-проектора BenQ W11000 с эмуляцией разрешения 4К

  • AMD Ryzen Threadripper 1920Х и 1950X — тестирование 12-ядерного и 16-ядерного процессоров

  • Обзор мини-ПК ECS Liva Z на базе процессора Apollo Lake

  • Самый лучший процессор, неудачи Microsoft, гибкие наушники Samsung

  • Обзор цветного МФУ Xerox VersaLink C405 для малых и средних офисов

  • Обзор умного чайника Redmond SkyKettle RK-G200S с подсветкой и нагревом воды до нужной температуры

  • Конфигурируем мини-ПК: изучаем влияние памяти и накопителя на быстродействие системы

1212

Календарь

март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс

Рекомендуем почитать