Из Японии поступило сообщение о том, что три компании - Hitachi, Mitsubishi Electric и Seiko Epson, изъявили желание присоединится к японскому консорциуму Leepl, ведущему разработку литографического оборудования следующего поколения - NGL (next-generation lithography) и возглавляемому Sony, NTT Advanced Technology и Tokyo Seimitsu.
Консорциум Japanese NGL, называемый также Leepl Corp., в прошлом году уже представил прототип нового литографического инструмента на основе технологии low-energy e-beam proximity projection lithography (LEEPL) для выпуска чипов с 70 нм и 50 нм узлами.
До сих пор членами Leepl являлись 16 японских компаний: четыре производителя установок - NEC, Rohm, Sony и Texas Instruments, четыре производителя фотомасок - Dai Nippon Printing, Hoya, NTT Advanced Technology и Toppan Printing, пять производителей резистов и материалов - Fiji Film Arch, JSR, Shin-Etsu Chemical, Shipley Far East и Tokyo Ohka Kogyo, и три производителя оборудования - Leepl, Tokyo Seimitsu и Toshiba Machine.