Главная » Новости » 2002 » 06 » 25 25 июня 2002

Applied продлевает жизнь старым литографическим инструментам

Вот уж никогда не знаешь наверняка, что там придумают хитрые промышленники, лишь бы сэкономить на новых литографических инструментах. Вот, сегодня компания Applied Materials представила технологию нанесения пленок с применением химического замещения ионов (chemical vapor deposition или CVD), позволяющую производить транзисторы размером менее 100 нм (0,1 мкм) с помощью существующих 248-нм литографических инструментов.

Пленка Applied, названная Advanced Patterning Film (APF), предназначена для изготовления масок в производстве полупроводниковых микросхем по 0,09-мкм и 0,065-мкм нормам с применением CVD. Подробные детали этой технологии остаются пока тайной великой, однако кое-какие свойства этой пленки и способа ее применения все же известны. Пленка состоит из аморфного углерода и анти-отражающего диэлектрического покрытия (DARC, dielectric anti-reflective coating), а наносится она на поверхность полупроводника в специальных плазменных PECVD (plasma-enhanced CVD) системах.

Новая пленка позволяет использовать нынешние 248-нм литографические инструменты для создания чипов с элементами размером около 100 нм. Однако, говорят в Applied, уже для 90-нм норм ситуация обстоит уже хуже и для устойчивой работы на 50-нм нормах потребуются по крайней мере новые 193-нм инструменты.

Источник: PC Watch

20:34 25.06.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



июнь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.