Вчера Nikon представила литографический инструмент, позволяющий продлить рабочий цикл 248-нм литографических сканеров, этих "рабочих лошадок" полупроводниковой промышленности, до 110-нм технологических процессов.
Итак, 248-нм сканер шестого поколения NSR-S206D, предназначенный для 200-мм и 300-мм пластин позволяет создавать чипы с размером элемента 110 нм. Как сообщает Nikon, продукт оптимизирован для использования в производстве DRAM и других чипов, для которых важна малая себестоимость. Также компания считает, что этот сканер будет привлекателен для производителей чипов, для которых 193-нм литография пока не по карману.
В NSR-S206D применена линза с довольно большой числовой апертурой для длины волны 248 нм – 0,82 и малыми аберрациями, обеспечивающая стабильную работу на 110 нм. Утверждается, что разрешающая способность прибора не хуже 12 нм. При этом в сканере используется 30-Вт лазер, позволяющий обрабатывать до 147 200-мм или до 88 300-мм пластин в час.
Одновременно с этим был представлен i-line степпер NSR-SF120, предназначенный для сопряжения в сканерах для 200-мм и 300-мм пластин в DUV-сканерах Nikon. Сообщается, что сканер обеспечивает точность не хуже 280 нм на площади 25х33 мм.