Главная » Новости » 2002 » 07 » 17 17 июля 2002

Новая литографическая платформа от Canon

По сообщению промышленных источников, сегодня Canon намерена представить новую линейку экспозиционных инструментов.

Среди новинок – платформа FPA-6000, поддерживающая 248 нм, 193 нм и 157 нм инструменты производства самой Canon. В настоящее время на базе FPA-6000 уже поставляются 248 нм и 193 нм системы.

Новый 193 нм инструмент AS4 оборудован оптикой с числовой апертурой 0.85, что позволяет выпускать чипы с нормами 0,09 мкм и менее. Еще один новый инструмент – 248 нм ES5, оборудован оптикой с NA 0.80, что позволяет обеспечивать производство микросхем с нормами техпроцесса порядка 110 нм. Производительность одноступенчатой платформ с такими инструментами достигает 500 мм/с, то есть, до ста сорока 300 мм кремниевых пластин в час и до ста семидесяти 200 мм кремниевых пластин в час.

Поставки платформ на базе 157 нм инструментов, по заявлениям Canon, начнутся в начале 2005 года. Одним из заказчиков новых инструментов станет немецкая Infineon Technologies AG.

Источник: PC Watch

12:13 17.07.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.