Сегодня голландский производитель литографического оборудования компания ASML Holding NV опубликовала пресс-релиз, в котором представлены подробности о новом 193 нм литографическом степпере TWINSCAN AT:1200B Step & Scan System, предназначенном для массового производства чипов с нормами 90 нм.
Twinscan AT:1200B обеспечивает разрешение вплоть до 80 нм и предназначен для работы с 300 мм кремниевыми пластинами. Как и остальные инструменты серии Twinscan, AT:1200B способен обрабатывать в два этапа одновременно две пластины.
К сожалению, в пресс-релизе не указывается производительность новой системы. Начало поставок AT:1200B запланировано на середину 2003 года.