Главная » Новости » 2002 » 11 » 21 21 ноября 2002

Twinscan AT:1200B: новая 193 нм литографическая установка от ASML для обработки 300 мм пластин с нормами 90 нм

Сегодня голландский производитель литографического оборудования компания ASML Holding NV опубликовала пресс-релиз, в котором представлены подробности о новом 193 нм литографическом степпере TWINSCAN AT:1200B Step & Scan System, предназначенном для массового производства чипов с нормами 90 нм.

Twinscan AT:1200B обеспечивает разрешение вплоть до 80 нм и предназначен для работы с 300 мм кремниевыми пластинами. Как и остальные инструменты серии Twinscan, AT:1200B способен обрабатывать в два этапа одновременно две пластины.

К сожалению, в пресс-релизе не указывается производительность новой системы. Начало поставок AT:1200B запланировано на середину 2003 года.

01:44 21.11.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
ноябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.