Главная » Новости » 2002 » 12 » 03 3 декабря 2002

Toshiba и Sony представят 65-нм технологию на IEDM

Toshiba и Sony сообщают в совместном заявлении о разработке технологии производства чипов по нормам 65-нм техпроцесса. Компании потратили на разработку технологии три и года 15 млрд. йен ($120 млн.), а в коммерческую эксплуатацию планируют ее запустить к марту 2004.

Подробные детали технологии Toshiba и Sony будут представлены на конференции IEDM (International Electron Devices Meeting), которая пройдет на следующей неделе с 9 по 11 декабря. Пока же известно, что размер вентиля транзисторов, изготавливаемых по новой технологии, не превышает 30 нм, используют нитрированный дилектрик с высоким содержанием азота толщиной около 1 нм, время срабатывания транзистора – 0,72 пкс.

Компании отмечают, что по новой технологии возможно создание чипов DRAM емкостью 256 Мбит и SRAM 64 Мбит.

Технология Toshiba и Sony рассчитана на использование 193-нм литографических инструментов.

12:34 03.12.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
декабрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.