Главная » Новости » 2003 » 01 » 16 16 января 2003

Intel готовит фотомаски для 65-нм и 32-нм техпроцессов

Несмотря на то, что уже выпущено немало публикаций, предупреждающих о резком росте стоимости фотомасок, Intel сообщила о продолжении выпуска собственных фотомасок. По словам компании, это необходимо для того, чтобы не быть зависимой от других фирм и обладать возможностью запуска производства по новым технологическим нормам каждые два года.

Одновременно с этим, Intel анонсировала начало выпуска фотомасок для 65-нм процесса. Сообщается, что уже в этом квартале компания будут доступны фотомаски, которые возможно будет использовать в производстве. Хотя до самого производства, начало которого назначено на 2005 год, еще довольно далеко.

Параллельно Intel произвела образцы следующего поколения фотомасок, для 32-нм процесса, которые предназначены для ультрафиолетовой литографии (EUV). Планируется, что производство по EUV-технологии начнется в 2007 году.

Источник: Parasound

13:47 16.01.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.