Главная » Новости » 2003 » 02 » 17 17 февраля 2003

Японские компании представят прототип EUV установки в 2005 году

Согласно предварительным данным, оглашенным на шестом форуме International Forum on Semiconductor Technology (IFST), японский консорциум Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA) в текущем году планирует приступить к разработке первой EUV-установки. Появление рабочего прототипа системы ожидается в 2005 году.

Помимо EUVA, в Японии существует еще одна организация - Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), также занимающаяся разработкой EUV-установок, однако, по всей видимости, EUVA, созданная в 2001 году, станет своеобразным локомотивом этой разработки.

Интересно отметить, что в EUVA входят два известных производителя литографического оборудования - Canon и Nikon, являющиеся серьезными конкурентами. Обе компании будут заниматься совместной разработкой оптических систем для опытной EUV-установки. Тем не менее, обе компании намерены выводить на рынок свои собственные конечные EUV-продукты.

Источник: PC Watch

00:02 17.02.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.