Главная » Новости » 2003 » 02 » 27 27 февраля 2003

ASML готовится к отгрузкам первого 157 нм литографического сканера

Интересное сообщение с походящей на этой неделе конференции SPIE Microlithography: голландская компания ASML Holding NV готовится отгрузить первую 157 нм литографическую установку уже в марте.

Первым 157-нм аппаратом станет разработанный еще компанией Silicon Valley Group Inc. (SVG, до ее приобретения ASML) аппарат Microscan VII. Первым покупателем Microscan VII станет расположенный в Бельгии меж-университетский центр Interuniversities MicroElectronics Center (IMEC), который с помощью новой установки намерен продолжить исследования по применению подобных устройств при выпуске чипов с нормами 65 нм.

Сканер Micrascan VII оборудован оптикой на основе фторида кальция (CaF2). Что-то подобное в свое время планировала использовать на своих предприятиях Intel, однако, как вы помните, из-за задержек на вооружение были приняты другие технологические решения.

Источник: PC Watch

12:30 27.02.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА MICROLAB

В каком году была основана компания Microlab?
февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.