Главная » Новости » 2003 » 02 » 28 28 февраля 2003

Импринт-литография по версии Motorola: 30-нм нормы с пол-оборота

Motorola опубликовала на этой неделе детали своей технологии импринт-литографии, утверждая, что может создавать чипы с размером элемента 30 нм. Компания использовала продукт разработки техасской компании MII (Molecular Imprints Inc.).

Рассказывая о достигнутом на конференции SPIE Microlithography, представитель Motorola продемонстрировала шаблон, с помощью которого удалось наносить рисунок на поверхность полупроводника с элементами размером 30-100 нм. В компании уверены в том, что импринт-литографию ждет большое будущее и не разделяют мнения, что дефекты и неточности выравнивания слоев играют решающую роль в прогрессе (а точнее, в его отсутствии) импринт-литографии. С точки зрения Motorola, прохладное отношение промышленников к этой, в сущности, не новой технологии обусловлено нежеланием связываться с изготовлением специальных фотомасок и применением фоторезиста.

Источник: Parasound

09:53 28.02.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.