Несмотря на то, что лидер индустрии, компания Intel, пару недель назад публично поставила крест на дальнейших планах использования в своих технологических роадмэпах 157 нм литографических инструментов, немецкая Infineon Technologies AG объявила о решительности придерживаться ранее принятому курсу и начать производство чипов памяти с 55 нм нормами, с использованием 157 нм литографии, уже в 2007 году.
На прошедшей неделе Infineon заключила партнерское соглашение с компанией Clariant Corporation, занимающейся производством химических материалов, на предмет совместной разработки и производства новых фоторезистов для использования их с 157 нм инструментами.
Совместные исследования будут проводиться на новой 300 мм фабрике Infineon в Дрездене, Германия, где, как ожидается, будет установлена одна из первых в индустрии промышленная 157 нм установка. Одна из задумок, на которую ставят в Infineon — определение возможности использования в качестве фоторезиста мягких пленок, в отличие от нынешних "жестких" 800 мкм стеклянных структур. Для этого компаниям еще предстоит определиться с новыми органическими материалами, которые могут быть использованы совместно с 157 нм сканерами.