Главная » Новости » 2003 » 06 » 16 16 июня 2003

Nikon о планах развития 157-нм иммерсионной литографии

Своего рода ответом на заявление Intel об отказе от использования 157-нм литографических инструментов стал анонс в середине прошлой недели новой стратегии Nikon по развитию перспективных литографических технологий.

С точки зрения Nikon, наибольшие перспективы сулит иммерсионная фотолитография на длинах волн 193 нм и 157 нм, которая, как ожидается, позволит выпускать чипы по 45-нм нормам. Таким образом, Nikon, можно сказать, бросает вызов Intel, сделавшей ставку на ультрафиолетовую литографию. В защиту своего мнения Nikon припомнила несоответствия в роадмэпах SIA и ITRS, из которых, в частности, следует, что промышленность должна была бы отставать примерно на четыре года, и уже для 100-нм норм требовалось бы использовать рентгеновское излучение.

Источник: PC Watch

16:09 16.06.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
июнь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.