Своего рода ответом на заявление Intel об отказе от использования 157-нм литографических инструментов стал анонс в середине прошлой недели новой стратегии Nikon по развитию перспективных литографических технологий.
С точки зрения Nikon, наибольшие перспективы сулит иммерсионная фотолитография на длинах волн 193 нм и 157 нм, которая, как ожидается, позволит выпускать чипы по 45-нм нормам. Таким образом, Nikon, можно сказать, бросает вызов Intel, сделавшей ставку на ультрафиолетовую литографию. В защиту своего мнения Nikon припомнила несоответствия в роадмэпах SIA и ITRS, из которых, в частности, следует, что промышленность должна была бы отставать примерно на четыре года, и уже для 100-нм норм требовалось бы использовать рентгеновское излучение.