Исследовательский центр в Японии, спонсируемый правительством и компаниями, занятыми производством полупроводников, открыл 300-мм линию для тестирования и разработки спецификаций выпуска чипов по 90-нм и более современным технологии.
Как отметил Каору Тосака (Kaoru Tosaka), президент NEC Electronics Corp. и председатель исполнительного комитета японской Ассоциации электроники и ИТ-индустрии, спрос на полупроводнки, выполненные с использованием современных технологий, особенно, для мобильных телефонов и бытовой электроники, растет; поэтому основная цель исследовательской деятельности — повышение конкурентоспособности японских полупроводников.
Единый 90-нм процесс будет определен пятью компаниями, поддерживающими центр — Fujitsu, Matsushita, NEC, Renesas и Toshiba. В основу исследований лягут технологии NEC. Пилотная линия будет служить базой для проведения исследований и, как отмечается, благодаря ей компании смогут предлагать свои собственные, различающиеся технологии. Запуск линии в пилотом режиме запланирован на октябрь.
Национальный технологический институт , независимая научно-исследовательская организация, отправляет в центр 10 исследователей, которые подключатся к работе 100 инженеров Advanced SoC Platform Corp. (ASPLA). В 2004 году исследователи планируют передать технологии, разработанные в центре, производственным предприятиям и начать разрабатывать 65-нм техпроцесс.