Главная » Новости » 2003 » 07 » 14 14 июля 2003

Nikon поставит первую CMP-систему для 65-нм литографии

В конце прошлой недели корпорация Nikon сообщила о том, что готова поставить первую технологическую систему для обработки 300-мм пластин по 65-нм нормам NPS3301 на открывающийся в Японии завод. CMP-система предназначена для создания проводников и полировки поверхности.

Как утверждается в пресс-релизе компании, основным аргументом в пользу CMP-системы Nikon стало то обстоятельство, что в них используется меньшее количество расходных материалов при полировке поверхности полупроводниковой подложки, что, в свою очередь, способствует меньшей себестоимости технологического процесса (по словам компании, до 50%).

11:53 14.07.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.