В конце прошлой недели корпорация Nikon сообщила о том, что готова поставить первую технологическую систему для обработки 300-мм пластин по 65-нм нормам NPS3301 на открывающийся в Японии завод. CMP-система предназначена для создания проводников и полировки поверхности.
Как утверждается в пресс-релизе компании, основным аргументом в пользу CMP-системы Nikon стало то обстоятельство, что в них используется меньшее количество расходных материалов при полировке поверхности полупроводниковой подложки, что, в свою очередь, способствует меньшей себестоимости технологического процесса (по словам компании, до 50%).