Главная » Новости » 2003 » 07 » 14 14 июля 2003

Centura: DPN-система Applied Materials

Сегодня к нам пришло еще несколько сообщений об анонсах новых литографических инструментов для 65-нм технологических норм. Пожалуй, самым интересным из них стало сообщение Applied Materials о начале поставок DPN-системы Centura (DPN — Decoupled Plasma Nitridation). Centura позволяет проводить несколько разновидностей процессов на 300-мм пластинах и получать пленки оксидов толщиной менее 11 ангстрем. Утверждается, что ток утечки при этом составляет на порядок меньше, чем в оксидных пленках, нанесенных в TN-процессах (TN — thermal nitridation), и систему возможно применять в производстве как логических схем, так и DRAM.





Дополнительно, в состав Centura входит специальная RTP (Rapid Thermal Processing) камера для отжига пластин.

18:31 14.07.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС на iXBT.com

Есть ли у Вас внешний аккумулятор (PowerBank)?
июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.