Компания NuFlare Technology, подразделение Toshiba, сообщает о скором начале поставок EBM-5000 – электронно-лучевой системы для изготовления фотомасок по нормам 90 нм. Новая система использует разность потенциалов 50 кВ и работает почти в два раза быстрее последней модели компании. Как утверждается, EBM-5000 можно будет применять для обработки фотомасок по 90-нм и 65-нм нормам. Правда, стоить новая система будет около $20 млн. за штуку.
Основным конкурентом компании на рынке электронно-лучевых систем (которых и поставляется-то не более 10 за год) являются Applied Materials, Hitachi, JEOL и Leica. К тому же, по данным Dataquest, продажи оборудования для обработки фотомасок в последнее время существенно снизились: с $322,2 млн. в 2001 до $250,2 млн. в 2002.