Главная » Новости » 2003 » 07 » 27 27 июля 2003

Toshiba готовит EBM-5000: систему для обработки 90-нм и 65-нм фотомасок

Компания NuFlare Technology, подразделение Toshiba, сообщает о скором начале поставок EBM-5000 – электронно-лучевой системы для изготовления фотомасок по нормам 90 нм. Новая система использует разность потенциалов 50 кВ и работает почти в два раза быстрее последней модели компании. Как утверждается, EBM-5000 можно будет применять для обработки фотомасок по 90-нм и 65-нм нормам. Правда, стоить новая система будет около $20 млн. за штуку.

Основным конкурентом компании на рынке электронно-лучевых систем (которых и поставляется-то не более 10 за год) являются Applied Materials, Hitachi, JEOL и Leica. К тому же, по данным Dataquest, продажи оборудования для обработки фотомасок в последнее время существенно снизились: с $322,2 млн. в 2001 до $250,2 млн. в 2002.

12:58 27.07.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.