Главная » Новости » 2003 » 08 » 18 18 августа 2003

Обратимая квантовая литография: еще один подход к созданию квантовых чипов

Как сообщают исследователи из Кембриджского Университета, им удалось освоить технику изготовления квантово-электронных устройств с использованием атомно-силового микроскопа (AFM). Техника получила название обратимой электростатической литографии (EEL, erasable electrostatic lithography, R Crook et al. 2003 Nature 424 751).





Атомно-силовой микроскоп был использован для создания локальных зарядовых неоднородностей атомарного размера на поверхности пластины из арсенида галлия. Для этого игла микроскопа была заряжена до –6 В, из-за чего в близости к игле наводился положительный заряд, а избыток электронов компенсировался расположенным ниже слоем алюминия. Таким образом, при надлежащей точности позиционирования иглы AFM и низкой температуре (все манипуляции проводились при 20 мК) можно создавать рисунок, схожий с литографическим рисунком на полупроводниковом чипе. Стирать рисунок можно проведением иглы с потенциалом +3 В или освещением пластины красным светом.

Научившись создавать наноструктуры, исследователи из Кембриджа собираются исследовать такие их свойства, как время декогерентизации квантовых состояний. Возможно, что на базе подобных исследований когда-нибудь можно будет говорить о создании квантовых чипов, считают они.

Источник: CDRLabs

09:51 18.08.2003
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2003

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.