Canon предлагает вортексные маски для 248-нм сканеров

Как сообщили источники, Canon, возможно, собирается продлить жизненный цикл 248-нм литографических сканеров в область норм менее 100 нм благодаря внедрению новой технологии, использующей разность оптических фаз.

Canon обнародовала некоторые детали своего исследования, посвященного технике использования двух масок вместо одной и дополнительного этапа экспозиции. Утверждается, что 248-нм сканеры можно будет использовать для изготовления проводников размером вплоть до 70 нм. Проводники, правда, получаются немного эллиптичными, но этот недостаток подлежит частичной или полной коррекции.

8 сентября 2003 в 16:31

Автор:

| Источник: PC Watch

Все новости за сегодня

Календарь

сентябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30