На мероприятии SPIE Advanced Lithography компания Nikon опубликовала свои планы по выпуску 193-нанометровых сканеров для «мокрой» и «сухой» литографии.
Кроме того, японская компания представила обновленную программу освоения технологии литографии в «жестком» ультрафиолетовом диапазоне (EUV). По словам Nikon, используя эту технологию, ей уже удалось добиться успеха при создании образцов 28-нанметровых чипов на исследовательских установках.
Пока готово два пробных экземпляра установки, один из которых сейчас используется специалистами Intel. В разработке находится еще один сканер для EUV, относящийся к опытной серии. Он будет установлен в исследовательском центре Nikon в Японии.
Что касается оборудования для иммерсионной литографии, компания обещает выпустить к четвертому кварталу сканер NSR-S620. Он был представлен в прошлом году, но его подробные технические данные пока не известны. Указанный сканер должен обеспечить массовое производство по нормам 32 нм и менее. Производственная платформа, частью которой станет NSR-S620, будет иметь производительность 200 пластин в час.
Одновременно компания сообщила о новом инструменте для 193-нанметровой «сухой» литографии, NSR-320F. Технические данные опубликованы не были, известно лишь, что NSR-320F появится на рынке в 2010 году.
Источник: EE Times